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本发明涉及一种直流磁控溅射制备非晶态La?Mn?O薄膜的方法,该方法利用直流磁控溅射以镧锰合金为靶材,将合金靶材和衬底放入磁控溅射生长室中,在真空条件下进行磁控溅射得到沉积态薄膜,将沉积态薄膜进行后退火处理,通过调控退火温度得到非晶态La?Mn?O薄膜,该方法工艺简单,效率高,形成非晶相薄膜的退火温度较低,能耗较少,制备的非晶相La?Mn?O薄膜成分均匀,具有显著的负温度系数特性,有望应用于NTC...
本发明涉及一种添加剂辅助的尖晶石相Mn?Ni?Cu?O纳米粉体低温制备方法,该方法以锰、镍、铜的乙酸盐和氢氧化钠为原料,反应过程中加入表面活性剂或分散剂,通过球磨、洗涤、干燥和煅烧后得到纳米粉体。该方法使用的原材料不涉及易制毒制爆的材料,制备工艺简单,成本低,产率高且反应速度快,制备的粉体粒径小、表面活性高,在较低的温度下形成纯尖晶石相,能量消耗少;粉体表面较大的Zeta电位使得粉体不易团聚,分散...

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